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全自动单面一次光刻机

产品描述:

设备型号:MA-I-S200,工作台模式:单工位曝光。

应用领域:

广泛应用于半导体、封装、LED、分立器件、5G通讯、新型光学器件、MEMS、FPC、化合物半导体、基板、功率器件等行业。在这些领域中,它发挥着制造高精度、高复杂度电路图形的重要作用。

1

平均速度

400片/小时(曝光时间不高于3.0秒的速度)

2

上料重复精度

±0.15mm

3

晶圆尺寸范围

4-6寸(根据客户情况定制合适的尺寸)

4

找平机构

全自动三点式微力找平

5

设备电压

AC  220V 50HZ

6

设备气源要求

正压大于05Mpa,负压大于55KPa

7

设备最大功率

3.5KW

8

曝光灯波长

365nm(可定制365/405/420/435nm)

9

曝光灯最大光功率

40mW/cm2

10

曝光灯平行半角

1.5度

11

曝光灯均匀性

97%的平行光

12

曝光方式

接触式/接近式

13

分辨率

接触式1.0um,接近式3.0um(正胶厚度1um以内,曝光间隙5um)

14

视觉识别精度

5um

15

设备NG率

不大于0.1%

16

升降平台重复精度

±0.25um

17

设备尺寸

长×宽×高=1588mm×1283mm×2252mm(不带报警灯2000mm)

18

设备重量

700Kg


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